| Si3N4陶瓷材料高温氧化层的分析 |
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| 引用本文： | 张其土,钱同生.Si3N4陶瓷材料高温氧化层的分析[J].理化检验(物理分册),1998,34(12):3-6. |
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| 作者姓名： | 张其土 钱同生 |
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| 作者单位： | 南京化工大学 南京210009
(张其土)，南京化工大学 南京210009(钱同生) |
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| 摘 要： | 利用ＸＲＤ，ＥＰＭＡ，ＸＰＳ和ＳＥＭ的分析方法，研究了在１３００℃下氧化后Ｓｉ３Ｎ４陶瓷材料表面氧化层的组成的形貌，结果表明，Ｓｉ３Ｎ４陶瓷材料的表面氧化层是由方石英相和含有Ａｌ２Ｏ３，ＣａＯ等杂质的ＳｉＯ２质玻璃相所组成，其中ＳｉＯ２玻璃相听Ａｌ２Ｏ３，ＣａＯ等杂质的含量随氧化时间的增加而逐渐增加，同时在氧化层的内部都还存在部分Ｓｉ２Ｎ２Ｏ相。
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| 关 键 词： | 氮化硅 氧化层分析 陶瓷材料 XRD EPMA XPS |
ANALYSIS ON OXIDATION LAYER OF THE Si3N4 CERAMICS OXIDIZED AT HIGH TEMPERATURE |
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| Zhang Qitu Qian Tongsheng.ANALYSIS ON OXIDATION LAYER OF THE Si3N4 CERAMICS OXIDIZED AT HIGH TEMPERATURE[J].Physical Testing and Chemical Analysis Part A:Physical Testing,1998,34(12):3-6. |
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| Authors: | Zhang Qitu Qian Tongsheng |
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| Affiliation: | Nanjing University of Chemical Technology |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Silicon nitride Oxidation Analysis |
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