| ST-石英的湿法腐蚀工艺研究 |
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| 引用本文： | 林丙涛,唐光庆,周倩,张巧云,翁邦英,班亚娟. ST-石英的湿法腐蚀工艺研究[J]. 压电与声光, 2014, 36(5): 779-781 |
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| 作者姓名： | 林丙涛 唐光庆 周倩 张巧云 翁邦英 班亚娟 |
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| 作者单位： | （1.中国电子科技集团公司第26研究所，重庆 400060；;2.中国人民解放军驻重庆气体压缩机厂军事代表室，重庆 400050) |
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| 摘 要： | 对影响ST-切向石英表面湿法腐蚀质量的因素进行了试验研究,并对结果进行了详细分析。试验基片材料为双面抛光的ST-切向石英晶体,掩蔽膜材料为Cr/Au双层金属膜,腐蚀液为HF和NH4F的混合溶液;主要研究了基片清洗、腐蚀液成分配比及腐蚀温度等工艺参数对基片表面腐蚀质量的影响,并通过选择最佳的试验参数,以约0.7μm/min的适中腐蚀速率加工出了满足要求的晶体表面。
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| 关 键 词： | ST-切石英 湿法腐蚀 掩蔽膜 |
Study on Wet Etching Process of ST-cut Quartz |
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| LIN Bingtao,TANG Guangqing,ZHOU Qian,ZHANG Qiaoyun,WENG Bangying and BAN Yajuan. Study on Wet Etching Process of ST-cut Quartz[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 2014, 36(5): 779-781 |
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| Authors: | LIN Bingtao TANG Guangqing ZHOU Qian ZHANG Qiaoyun WENG Bangying BAN Yajuan |
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| Affiliation: | (1.26th Institute of China Electronics Technology Group Corporation, Chongqing 400060, China;;2.Chnese People Liberation Army Military Deputy Station of Chongqing Gas Lompressor Factory, Chongqing 400050, China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ST-cut quartz wet etching etch mask |
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