| DC磁控溅射制备的TiNx薄膜组分及性能分析 |
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| 引用本文： | 李海翼,赖珍荃,朱秀榕,胡敏.DC磁控溅射制备的TiNx薄膜组分及性能分析[J].红外与毫米波学报,2010,29(4):245-247. |
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| 作者姓名： | 李海翼 赖珍荃 朱秀榕 胡敏 |
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| 作者单位： | 南昌大学,物理系,江西,南昌,330031 |
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| 摘 要： | 利用DC磁控溅射法在p-Si(111)衬底上制备了TiNx薄膜.利用X射线能谱仪(EDX)、X射线衍射(XRD)、紫外/可见分光光度计、四探针电阻率测试仪等分析了薄膜的组分、结构和光电特性.结果表明,薄膜中N/Ti原子比接近于1;衬底温度对薄膜的择优取向影响显著,240℃附近是TiNx薄膜结晶择优取向由(111)向(200)转变的临界点;薄膜在近红外波段平均反射率随衬底温度的升高,先增大后减小;薄膜的电阻率随着衬底温度的升高而显著降低.
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| 关 键 词： | 氮化钛薄膜 磁控溅射 反射率 电阻率 |
| 收稿时间： | 5/7/2009 12:00:00 AM |
| 修稿时间： | 2010/1/31 0:00:00 |
Composition and properties of TiNx thin films prepared by DC magnetron sputtering |
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| LI Hai-Yi,LAI Zhen-Quan,ZHU Xiu-Rong and HU Min.Composition and properties of TiNx thin films prepared by DC magnetron sputtering[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,2010,29(4):245-247. |
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| Authors: | LI Hai-Yi LAI Zhen-Quan ZHU Xiu-Rong and HU Min |
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| Affiliation: | Department of Physics, Nanchang University,Department of Physics, Nanchang University |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiN thin films Magnetron sputtering Reflectance Resistivity |
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