| 淀积参数对ITO膜光谱的影响 |
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| 引用本文： | 张怀武. 淀积参数对ITO膜光谱的影响[J]. 半导体光电, 1992, 13(2): 144-147,159 |
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| 作者姓名： | 张怀武 |
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| 作者单位： | 电子科技大学90B 成都 |
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| 摘 要： | 研究了基体偏压和氧分压强影响 ITO 膜光谱的机理。确定出最佳氧分压为(8～10)×1O~(-3)pa,通过比较衬底高温法和衬底偏置法制备 ITO 膜的红外光谱,发现两者有相同的变化趋势。
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| 关 键 词： | 光谱 偏压 ITO膜 淀积参数 |
Effect of Deposition Parameters on Optical Spectrum of ITO Film |
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| Zhang Huaiwu University of Electronic Science and Technology of China Chengdu. Effect of Deposition Parameters on Optical Spectrum of ITO Film[J]. Semiconductor Optoelectronics, 1992, 13(2): 144-147,159 |
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| Authors: | Zhang Huaiwu University of Electronic Science and Technology of China Chengdu |
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| Affiliation: | Zhang Huaiwu University of Electronic Science and Technology of China Chengdu 610054 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Optical Spectrum Bias Voltage |
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