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| 偏振分光膜的设计与制备 | |
| 引用本文： | 张妹玉.偏振分光膜的设计与制备[J].数字通信世界,2016(10). |
| 作者姓名： | 张妹玉 |
| 作者单位： | 闽江学院物理学与电子信息工程系,福州,350108 |
| 摘 要： | 首先利用TFCalc薄膜软件进行了膜系设计和优化,然后采用国产真空镀膜机WTS800/1000,通过离子束辅助沉积技术在Bk7基体上交替镀制了Ta2O5和SiO2两种高低折射率的材料.当光满足布儒斯特角入射时,在波长为650nm处实现了P光和S光的偏振分离.制备后的成品在Lambanda750测试系统进行了偏光性能的测试.测试结果表明:透射率曲线与理论设计曲线吻合得很好,透射P光的消光比达到284:1. |
| 关 键 词： | 偏振分光 离子束辅助沉积 消光比 |
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