| 软刻蚀技术及其应用 |
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| 引用本文： | 陈长琦,王艳,王旭迪,汪力. 软刻蚀技术及其应用[J]. 真空, 2003, 0(6): 11-14 |
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| 作者姓名： | 陈长琦 王艳 王旭迪 汪力 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学机械与汽车工程学院,安徽,合肥,230009 |
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| 摘 要： | 软刻蚀是通过表面带图案的弹性模板来实现图案的转移的图形复制技术，作为非光刻微米和纳米量级微加工方法，加工的分辨率可以达到5nm～100μm，它克服了传统光刻技术的缺陷，为形成和制作平面和曲面上的微米和纳米图案提供了简便、有效的低成本途径。本文将主要介绍微接触印刷、近场光刻蚀、纳米压印等软刻蚀方法的原理、方法以及面临的问题，并简介了它们在微米和纳米加工、微电子学、材料科学、光学、微电子机械系统、表面化学等方面应用。
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| 关 键 词： | 软刻蚀 图形复制技术 微接触印刷 近场光刻蚀 纳米压印 |
| 文章编号： | 1002-0322(2003)06-0011-04 |
| 修稿时间： | 2003-06-11 |
Soft lithography technology and applications |
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| CHEN Chang-qi,WANG Yan,WANG Xu-di,WANG Li. Soft lithography technology and applications[J]. Vacuum(China), 2003, 0(6): 11-14 |
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| Authors: | CHEN Chang-qi WANG Yan WANG Xu-di WANG Li |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | soft lithography elastic mold/stamp microcontact printing near field photolithography nano-imprint lithography |
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