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| 磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜 | |
| 引用本文： | 王怀义,刁训刚,王武育,杨海刚,丁破,郝维昌,王天民.磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜[J].功能材料,2008,39(10). |
| 作者姓名： | 王怀义 刁训刚 王武育 杨海刚 丁破 郝维昌 王天民 |
| 作者单位： | 1. 北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;北京印刷学院,基础部,北京102500 2. 北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083 3. 北京有色金属研究总院,北京,100088 |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划) |
| 摘 要： | 利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 纳米微晶 NiOx薄膜 |
Preparation of nano-microcrystalline NiOx films by magnetron sputtering and cooling substrates |
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| WANG Huai-yi,DIAO Xun-gang,WANG Wu-yu,YANG Hai-gang,DING Peng,HAO Wei-chang,WANG Tian-min.Preparation of nano-microcrystalline NiOx films by magnetron sputtering and cooling substrates[J].Journal of Functional Materials,2008,39(10). | |
| Authors: | WANG Huai-yi DIAO Xun-gang WANG Wu-yu YANG Hai-gang DING Peng HAO Wei-chang WANG Tian-min |
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