| 硼碳氮薄膜的内应力研究 |
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| 引用本文： | 王玉新,冯克诚,吴云,赵永年.硼碳氮薄膜的内应力研究[J].长春理工大学学报,2006,29(1):8-10. |
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| 作者姓名： | 王玉新 冯克诚 吴云 赵永年 |
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| 作者单位： | 长春理工大学,理学院,长春,130022;辽宁师范大学,物理系,大连,116029;长春理工大学,理学院,长春,130022;吉林大学,超硬材料国家重点实验室,长春,130012 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射技术制备出硼碳氮(BCN)薄膜。傅里叶红外吸收光谱(FTIR)测量发现样品的组成原子之间实现了原子级化合,扫描电子显微镜(SEM)测量发现样品与衬底间存在较大的内应力。样品剥落后,应力的消除使红外吸收峰向低波数移动。实验还发现,对新制备的硼碳氮薄膜进行600℃热处理能有效释放薄膜中的压应力。
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 硼碳氮薄膜 内应力 |
| 文章编号： | 1672-9870（2006）01-0008-03 |
| 收稿时间： | 2005-12-22 |
| 修稿时间： | 2005年12月22日 |
Inner Stress of Boron Carbon Nitride Thin Films |
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| WANG Yuxin,FENG Kecheng,WU Yun,ZHAO Yongnian.Inner Stress of Boron Carbon Nitride Thin Films[J].Journal of Changchun University of Science and Technology,2006,29(1):8-10. |
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| Authors: | WANG Yuxin FENG Kecheng WU Yun ZHAO Yongnian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RF magnetron sputtering BCN thin films inner stress |
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