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| 一种测量光电器件膜厚的新方法——X光能谱法 | |
| 引用本文： | 陶景光,廖兆曙.一种测量光电器件膜厚的新方法——X光能谱法[J].量子电子学报,1991(1). |
| 作者姓名： | 陶景光 廖兆曙 |
| 作者单位： | 华中理工大学 430074 (陶景光)，华中理工大学 430074(廖兆曙) |
| 摘 要： | 光电薄膜器件的膜厚是一个重要性能参数,通常用干涉仪和椭圆偏振仪测量,但它受到了光波波长和透明度的限制。根据电子光学原理,应用现代X光能谱技术,在MonteCsrlo电子轨迹法推导的数学模型和函数的基 |
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