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长波长线列碲镉汞焦平面器件拼接工艺研究
引用本文:谢珩,东海杰,张懿. 长波长线列碲镉汞焦平面器件拼接工艺研究[J]. 激光与红外, 2017, 47(1): 58-61
作者姓名:谢珩  东海杰  张懿
作者单位:华北光电技术研究所,北京 100015
摘    要:长波5000元长线列碲镉汞焦平面器件由5个长波1000元混成芯片在拼接基板上交错排列组成。本文采用拼接互连设备的正贴方法进行单模块与拼接基板的拼接,试验结果表明:该拼接方法的拼接位置精度在X和Y轴方向均小于8 μm,在Z轴方向小于15 μm,满足需求。

关 键 词:长波  长线列  碲镉汞  红外焦平面  拼接工艺

Research on butting technology of long-wave infrared linear HgCdTe FPA
XIE Heng,DONG Hai-jie,ZHANG Yi. Research on butting technology of long-wave infrared linear HgCdTe FPA[J]. Laser & Infrared, 2017, 47(1): 58-61
Authors:XIE Heng  DONG Hai-jie  ZHANG Yi
Affiliation:North China Research Institute of Electro-optics,Beijing 100015,China
Abstract:
Keywords:long wave  long linear array  HgCdTe  infrared FPA  butting technology
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