| 十八烷基胺膜的光电化学研究 |
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| 引用本文： | 廖强强,葛红花,周国定. 十八烷基胺膜的光电化学研究[J]. 上海电力学院学报, 2001, 17(3): 76-78 |
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| 作者姓名： | 廖强强 葛红花 周国定 |
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| 作者单位： | 上海电力学院环境工程系 |
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| 摘 要： | 讨论了十八烷基胺膜对电极表面钝化膜的影响，得出了“经十八烷基胺处理后的铁电极表面氧化铁层的化学组成大致不变，十八烷基胺的成膜过程是在十八烷基受渗透到氧化铁层成膜的同时，可能改变了氧化铁层的物理结构”的结论。
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| 关 键 词： | 光电化学 电厂 热力设备 停用保护 十八烷基胺膜 |
| 文章编号： | 1006-4729(2001)03-0076-03 |
| 收稿时间： | 2001-04-10 |
| 修稿时间： | 2001-04-10 |
Photoelectrochemical Study of Octadecylamine Layer |
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| LIAO Qiangqiang,GE Honghua and ZHOU Guoding. Photoelectrochemical Study of Octadecylamine Layer[J]. Journal of Shanghai University of Electric Power, 2001, 17(3): 76-78 |
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| Authors: | LIAO Qiangqiang GE Honghua ZHOU Guoding |
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| Abstract: | The photoelectrochemical results revealed that the chemical components of the iron oxide layer didn't change after the iron electrodes were treated with ODA. However, ODA penetrated into the iron oxide layer and probably modified the physical structure of the iron oxide layer . |
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| Keywords: | iron octadecylamine photoelectrochemistry |
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