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| 国外真空镀膜技术的发展和应用──出席第七届国际真空冶金会议专题报告 | |
| 引用本文： | 姜燮昌,唐以后,王芳霖.国外真空镀膜技术的发展和应用──出席第七届国际真空冶金会议专题报告[J].真空,1983(5). |
| 作者姓名： | 姜燮昌 唐以后 王芳霖 |
| 作者单位： | 机械工业部沈阳真空技术研究所 (姜燮昌，唐以后)，上海通用机械研究所(王芳霖) |
| 摘 要： | 第七届国际真空冶金和冶金镀膜会议于1982年11月26日──11月30日在东京经团联会馆举行。参加会议的有美国、苏联、西德、英国、日本等16个国家,共362人。中国出席这次会议共 9人,其中机械部3人、冶金部5人、科学院1人。会议发表论文共183篇,涉及内容十分广泛,本文就是这次会议有关真空镀膜的综述。 所谓真空镀膜就是指在真空或真空的可控气氛下将金属或金属化合物沉积到基体的表面上。从技术观点来看,目前的真空镀膜基本上可分为热蒸发、溅射、离子镀和等离子体化学汽相沉积(PCVD)四种(图1)。热蒸发和溅射早在40年代就开始应用于光学工业… |
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