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Ta表面氧含量的调控及Pd/Ta复合膜的制备研究
引用本文:李广忠,王昊,李亚宁.Ta表面氧含量的调控及Pd/Ta复合膜的制备研究[J].稀有金属材料与工程,2023,52(7):2505-2510.
作者姓名:李广忠  王昊  李亚宁
作者单位:西北有色金属研究院,西北有色金属研究院,西北有色金属研究院
基金项目:国家重点研发计划项目(2016YFB0600100),西北有色金属研究院重点科技项目 (YK2020-11)
摘    要:以Ta箔为研究对象,分别采用机械抛光和化学抛光的方法进行了Ta箔表面氧含量的调控研究,研究结果表明,机械抛光目前较难获得相对“洁净”的Ta表面,需结合氩离子溅射才可以获得氧含量很低的Ta膜;化学抛光能获得相对“洁净”的Ta表面。Ta箔表面经化学抛光处理后,进行Pd/Ta复合膜的化学镀制备研究。通过控制化学镀的时间,在Ta箔表面获得了完整均匀且无孔洞的Pd膜,该Pd膜的厚度约2.8μm。

关 键 词:Ta  表面处理  Pd/Ta复合膜  化学镀
收稿时间:2022/6/14 0:00:00
修稿时间:2023/5/10 0:00:00

Regulation of oxygen content on Tantalum surfaces and fabrication of Pd/Ta composite membrane
Li Guangzhong,Wang Hao and Li Yaning.Regulation of oxygen content on Tantalum surfaces and fabrication of Pd/Ta composite membrane[J].Rare Metal Materials and Engineering,2023,52(7):2505-2510.
Authors:Li Guangzhong  Wang Hao and Li Yaning
Abstract:
Keywords:Tantalum  Surface treatment  Pd/Ta composite film  Electroless plating
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