| ICP光源中频率测量装置的设计 |
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| 引用本文： | 王超,金星,石宝松,杜江. ICP光源中频率测量装置的设计[J]. 计算机测量与控制, 2010, 18(4) |
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| 作者姓名： | 王超 金星 石宝松 杜江 |
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| 作者单位： | 1. 中国地质大学(武汉)机械与电子信息学院,湖北,武汉,430074
2. 北京海光仪器公司,北京,100016 |
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| 基金项目： | 国家“十一五”科技支撑计划项目(2006BAK03A01) |
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| 摘 要： | 针对产生并维持电感耦合等离子体(ICP)的要求,简要介绍了频率稳定性对于ICP光源的意义,提出了测量范围为1.8~52MHz的频率测量装置的设计方案;文章详细分析了频率测量装置中的电路设计,包括采样互感器、功率合成电路、可变增益放大器和控制单元,并介绍了频率测量的软件设计方案;利用数字频率特性测试仪SA1050对频率测量装置进行了测试,在氩气等离子体的激发实验中,对ICP光源的频率稳定性进行了测量,通过对实验数据的分析统计,得到ICP光源的频率稳定度≤±0.1‰,可以满足ICP光源的使用要求。
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| 关 键 词： | ICP光源 频率测量 射频 |
Design of Frequency Measurer of ICP Source |
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| Wang Chao,Jin Xing,Shi Baosong,Du Jiang. Design of Frequency Measurer of ICP Source[J]. Computer Measurement & Control, 2010, 18(4) |
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| Authors: | Wang Chao Jin Xing Shi Baosong Du Jiang |
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| Affiliation: | 1.Faculty of Mechanical & Electronic Information/a>;China University of Geosciences/a>;Wuhan 430074/a>;China/a>;2.Beijing HaiGuang Instrument Co.Ltd/a>;Beijing 100016/a>;China |
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| Abstract: | In this paper a frequency measurer of inductively coupled plasma source is designed,the measurement range is 1.8-52MHz.The circuit of frequency measurer is analyzed,including: sample transformer,power combiner,variable gain amplifier,control unit.The accuracy of the frequency measurer is measured by frequency characteristic tester SA1050,and the frequency stability of ICP source is measured in experiments. |
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| Keywords: | ICP Source frequency measurement radio frequency |
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