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室温Si-玻璃直接键合技术研究
引用本文:黄腾超,沈亦兵,侯西云,娄迪,白剑.室温Si-玻璃直接键合技术研究[J].光电子.激光,2004,15(5):512-515.
作者姓名:黄腾超  沈亦兵  侯西云  娄迪  白剑
作者单位:浙江大学现代光学与仪器国家重点实验室,杭州,310027;浙江大学现代光学与仪器国家重点实验室,杭州,310027;浙江大学微系统研究与开发中心,杭州,310027
基金项目:国家自然科学基金资助项目(60077009),国家教育部博士点基金资助项目(2000033515)
摘    要:将表面亲水性处理过的玻璃和Si片在室温、大气的环境下干燥,进行温度为150C以下、时间为20~200h的预键合。预键合后,Si和玻璃基片表面能有显著的提高,水分子和Si表面Si-OH原子团中的O原子连在一起,OH团数量增加了许多,形成较多的H键。预键合的Si-玻璃基片在200C下退火.消除由Si、玻璃热膨胀系数和热传导系数差异引起的诱导应力。2基片的Si-OH间发生聚合反应.产生水及si-O键,使得基片键合的表面能得到了更好的提高、测量了室温键合时间对Si玻璃表面能力的影响以及退火时间对键合强度的影响。实验结果证明.这项技术对Si-玻璃器件的键合十分有效。

关 键 词:室温  Si-玻璃直接键合(SGDB)  退火时间  诱导应力
文章编号:1005-0086(2004)05-0512-04

Research on Silicon-Glass Direct Bonding at Room Temperature
HUANG Teng-chao.Research on Silicon-Glass Direct Bonding at Room Temperature[J].Journal of Optoelectronics·laser,2004,15(5):512-515.
Authors:HUANG Teng-chao
Affiliation:HUANG Teng-chao~
Abstract:
Keywords:ambient temperature  silicon-grass direct bonding(SGDB)  annealing time  induced stress
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