| HFCVD金刚石薄膜在Mo基体表面的形核 |
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| 引用本文： | 王婷,余志明,游小龙,丰杰. HFCVD金刚石薄膜在Mo基体表面的形核[J]. 材料科学与工程学报, 2008, 26(4) |
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| 作者姓名： | 王婷 余志明 游小龙 丰杰 |
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| 作者单位： | 中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083;中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083;中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083;中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083 |
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| 摘 要： | 采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法在Mo基体上沉积金刚石薄膜,使用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜样品进行分析检测,研究了表面形核密度随碳源浓度的变化.结果表明:随着碳源浓度增加表面形核密度增大,当碳源浓度达到3%时,表面形核密度质量最佳,当浓度进一步增大时,形核密度下降;随着碳源浓度增加,生长加快,当生长过快时影响形核过程,形核密度下降.
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| 关 键 词： | HFCVD 形核密度 金刚石薄膜 Mo基体 |
Diamond Film Nucleation on the Mo substrates by HFCVD |
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| WANG Ting,YU Zhi-ming,YOU Xiao-long,FENG Jie. Diamond Film Nucleation on the Mo substrates by HFCVD[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2008, 26(4) |
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| Authors: | WANG Ting YU Zhi-ming YOU Xiao-long FENG Jie |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | HFCVD |
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