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| 来稿摘登 | |
| 摘 要： | 化学镀可获得均匀平滑的复层,因而广泛用于电子工业.在高密度磁存储器中的应用便是一例,化学镀钴与PH、T和镀液组成有关,其中络合剂和镀液PH值最为重要. 对各种不同的钴胺镀液研究表明,最佳配方是:硫酸钴0.1M,次磷酸钠0.2M,焦磷酸钠0.4M,硫酸铵0.5M,该镀液稳定性好,沉积速度高,镀层细致,最佳工作条件为,PH10.5,T70℃.利用这些条件,可获得半光亮镀层,沉积速度3.5μm/hr,镀层磁性Hc=320Oe,Br/Bs=0.70(膜厚为1.0μ). |
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