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| 经Al2O3与 SiOx钝化的多孔硅及其光致发光特性 | |
| 引用本文： | 刘小兵,史向华,熊祖洪,袁帅,廖良生.经Al2O3与 SiOx钝化的多孔硅及其光致发光特性[J].半导体学报,2000,21(1). |
| 作者姓名： | 刘小兵 史向华 熊祖洪 袁帅 廖良生 |
| 作者单位： | 1. 长沙电力学院物理系 长沙 410077 2. 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海 200433 |
| 摘 要： | 在一定偏压下用AlCl3+C2H5OH+H2O混合液对多孔硅进行了后处理。经过处理的多孔硅与未经处理的多孔硅相比，其发光强且稳定。通过对样品进行红外吸收谱的测试和分析，指出在后处理样品表面形成的Al2O3与SiOx结构是多孔硅发光增强和稳定性得到提高的原因。 |
| 关 键 词： | 多孔硅 光致发光 钝化 Al2O3 SiOx |
Surface Passivation of Porous Silicon by SiOx and A12O3 Films |
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| Keywords: | |
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