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| 浅谈“二次曝光法”在PS版晒版中的应用 | |
| 作者姓名： | 孙猛 杨惠君 |
| 摘 要： | 在印刷制版过程中，“二次曝光法”是制版工人在晒版中消除在PS版一一f留下的胶片边缘阴影和灰尘脏点普遍采用的一种方法。通过这种方法，叶以减少制版修版过程的上作量，制得的＊S版版面干净，版材分辨力、网点再现力好，而已耐印力高。二次曝光法是指在晒版中分别用大曝光和辅助曝光光量对版材进行曝光的方法。而上、辅曝光值的选择要凭经验估计，通常晒版则一把辅曝光量定为卞曝光量的1／5－l／2之间。这种常规的曝光量控制方法虽然起到了一定的作用，但却带有一定的经验性和盲目性，常造成废版量增大、版材细小网点发虚的现象，给工作… |
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