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一种新型的基于pMOS和nMOS阈值电压差的CMOS电压基准源
引用本文:孔明,郭健民,张科,李文宏. 一种新型的基于pMOS和nMOS阈值电压差的CMOS电压基准源[J]. 半导体学报, 2007, 28(10): 1546-1550
作者姓名:孔明  郭健民  张科  李文宏
作者单位:复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海,201203;复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海,201203;复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海,201203;复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,上海,201203
基金项目:DC/DC电源的数字控制算法和ASIC实现研究,批准号:60676013
摘    要:提出了一种新的纯MOS结构的基准电压源,它利用pMOS和nMOS的阈值电压差来抵消工艺偏差,提高了基准的精度.该电路经过Chartered 0.35mm标准CMOS工艺成功流片,芯片面积为0.022mm2.测试结果表明:输出平均电压在室温下与仿真结果的绝对误差为6mV,在0~100℃范围内温度系数为180ppm/℃,电源调整率为±1.1%.该基准应用于自适应功率管驱动器中.

关 键 词:纯MOS结构  电压基准  阈值电压  温度系数  线性调整率
文章编号:0253-4177(2007)10-1546-05
修稿时间:2007-03-26

A Novel CMOS Voltage Reference Based on Threshold Voltage Difference Between p-Type and n-Type MOSFETs
Kong Ming,Guo Jianmin,Zhang Ke and Li Wenhong. A Novel CMOS Voltage Reference Based on Threshold Voltage Difference Between p-Type and n-Type MOSFETs[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2007, 28(10): 1546-1550
Authors:Kong Ming  Guo Jianmin  Zhang Ke  Li Wenhong
Affiliation:State Key Laboratory of ASIC & System,Fudan University,Shanghai 201203,China;State Key Laboratory of ASIC & System,Fudan University,Shanghai 201203,China;State Key Laboratory of ASIC & System,Fudan University,Shanghai 201203,China;State Key Laboratory of ASIC & System,Fudan University,Shanghai 201203,China
Abstract:
Keywords:MOS-only  voltage reference  threshold voltage  temperature coefficient  line regulation
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