| 磁控溅射B4C薄膜的制备与力学性能 |
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| 引用本文： | 韩增虎,田家万,李戈扬,唐建毅. 磁控溅射B4C薄膜的制备与力学性能[J]. 真空科学与技术学报, 2002, 22(1) |
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| 作者姓名： | 韩增虎 田家万 李戈扬 唐建毅 |
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| 作者单位： | 1. 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030
2. 上海交通大学国家教育部高温材料及高温重点实验室,上海,200030 |
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| 摘 要： | 通过磁控溅射方法在不同基片温度下制备了B4C薄膜 ,利用傅立叶红外光谱、X射线衍射、透射电子显微镜表征了薄膜的微结构 ,并采用纳牛力学探针测量了薄膜的力学性能。结果表明 ,室温下制备的B4C薄膜具有很高的硬度 ( 4 2 5GPa)和杨氏模量 ( 3 0 0GPa) ,薄膜呈现非晶或纳米晶特征。随基片温度的提高 ,薄膜略有晶化 ,硬度与杨氏模量相应增加到5 0 4GPa和 4 2 0GPa。
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| 关 键 词： | B4C薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射 |
Preparation and Mechanical Properties of Magnetron Sputtered B4C Thin Film |
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| Han Zenghu,Tian Jiawan,Li Geyang. Preparation and Mechanical Properties of Magnetron Sputtered B4C Thin Film[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2002, 22(1) |
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| Authors: | Han Zenghu Tian Jiawan Li Geyang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | B 4C thin film Microstructure Mechanical properties Magnetron sputtering |
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