| 用于KrF准分子激光光刻的衰减相移掩模 |
| |
| 引用本文： | 孙方,侯德胜,冯伯儒,张锦.用于KrF准分子激光光刻的衰减相移掩模[J].光电工程,2000,27(5). |
| |
| 作者姓名： | 孙方 侯德胜 冯伯儒 张锦 |
| |
| 基金项目： | 中国科学院重点项目，中国科学院光电技术研究所资助项目，国家重点实验室基金 |
| |
| 摘 要： | 讨论了相移掩模提高光刻分辨力的基本原理,提出了一种抗蚀剂相移器制作衰减相移掩模的新方法,利用自行设计、建立的KrF准分子激光投影光刻实验曝光系统进行了实验研究,给出了实验结果,并与传统光刻方法作了比较.
|
| 关 键 词： | 准分子光刻 相移掩模 图形分辨力 |
The Attenuated Phase-Shifting Mask for KrF Excimer Laser Photolithography |
| |
| SUN Fang,HOU De-sheng,FENG Bo-ru,ZHANG Jin.The Attenuated Phase-Shifting Mask for KrF Excimer Laser Photolithography[J].Opto-Electronic Engineering,2000,27(5). |
| |
| Authors: | SUN Fang HOU De-sheng FENG Bo-ru ZHANG Jin |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
