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| 离子轰击表面材料改性 | |
| 引用本文： | Biste,M 方伟林.离子轰击表面材料改性[J].微细加工技术,1992(4):33-36. |
| 作者姓名： | Biste M 方伟林 |
| 摘 要： | 最近几年,优质薄膜生长已显得越来越重要。在德国Giessen大学,用于材料加工的射频离子源(RIM)已得到研究开发,应用RIM进行薄膜生长和材料表面改性的分析,通过石英谐振晶体,测量了溅射原子的分布和膜层生长的特性,而且研究了溅射表面籽晶结构的形成过程。 |
| 关 键 词： | 离子轰击 材料 改性 |
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