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| 绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统 | |
| 引用本文： | 刘华,卢振武,熊峥,王尧,王鹤,黄剑波,谭向全,孙强. 绝对式光栅尺母尺刻划曝光系统[J]. 光学精密工程, 2014, 22(7): 1814 |
| 作者姓名： | 刘华 卢振武 熊峥 王尧 王鹤 黄剑波 谭向全 孙强 |
| 作者单位： | 刘华:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 光电技术研发中心, 吉林 长春 130033 卢振武:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 光电技术研发中心, 吉林 长春 130033 熊峥:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 光电技术研发中心, 吉林 长春 130033中国科学院大学, 北京 130049 王尧:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 光电技术研发中心, 吉林 长春 130033 王鹤:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 光电技术研发中心, 吉林 长春 130033 黄剑波:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 光电技术研发中心, 吉林 长春 130033 谭向全:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 光电技术研发中心, 吉林 长春 130033 孙强:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 光电技术研发中心, 吉林 长春 130033 |
| 基金项目： | 国家科技重大专项资助项目(No.2013ZX04007021) |
| 摘 要： | 提出了基于数字微镜器件(DMD)的双曝光头总体结构,该结构可同时刻划母尺的周期和非周期两个光栅码道。单曝光头包含曝光光源、调焦光源、DMD和投影镜头四部分,曝光光源由激光器、准直镜组、二维微透镜阵列和场镜组成。本文利用光学软件TracePro设计该光源,实现了能量的平顶分布,在14mm×10mm的照明面上均匀性达到95%以上。利用光学软件Zemax设计了工作在双波段(曝光光源0.403～0.407μm和调焦光源0.525～0.535μm)的共焦投影镜头,采用了二向色镜和分光棱镜使其能在曝光的同时进行实时调焦,优化后的系统在曝光波段和调焦波段均达到衍射极限,最大畸变为0.009%。与传统的光栅尺刻划技术对比,设计的曝光系统具有工艺简单、制作速度快、精度高等优势,可用于长、超长计量光栅的制作。 |
| 关 键 词： | 绝对式光栅尺 光栅码道 母尺刻划 数字微镜器件 曝光头 计量光栅 |
| 收稿时间： | 2013-11-12 |
Exposure optical system in lithographic main scale of absolute optical encoder |
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| Abstract: | |
| Keywords: | absolute optical encoder grating code-track main scale Digital Micro-mirror Device(DMD) exposure head metrological grating |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |