| 等离子体辅助热丝化学气相沉积金刚石膜 |
| |
| 引用本文： | 毕京锋 石玉龙. 等离子体辅助热丝化学气相沉积金刚石膜[J]. 青岛科技大学学报(自然科学版), 2004, 25(1): 36-38 |
| |
| 作者姓名： | 毕京锋 石玉龙 |
| |
| 作者单位： | 毕京锋（青岛科技大学,材料与环境科学学院,山东,青岛,266042） 石玉龙（青岛科技大学,材料与环境科学学院,山东,青岛,266042） |
| |
| 基金项目： | 山东省自然科学基金项目(Y200lF10) |
| |
| 摘 要： | 采用等离子辅助热丝化学气相沉积 (PAHFCVD)装置进行了金刚石薄膜的制备。并运用X射线衍射 (XRD)和扫描电子显微镜 (SEM)测试手段对沉积的金刚石薄膜进行了观察分析。在甲烷与氢气体积比为 2∶98、基体温度为 80 0℃、等离子体偏压 40 0V、沉积气压 4kPa的沉积条件下可获得晶形完整的金刚石膜 ,其沉积速率可达 1 1 μm·h- 1 。
|
| 关 键 词： | 等离子体 热丝 化学气相沉积 金刚石薄膜 |
| 文章编号： | 1672-6987(2004)01-0036-03 |
| 修稿时间： | 2003-07-18 |
Plasma Assistant Hot-filament Chemical Vapor Deposition of Diamond Film |
| |
| BI Jing-feng,SHI Yu-long. Plasma Assistant Hot-filament Chemical Vapor Deposition of Diamond Film[J]. Journal of Qingdao University of Science and Technology:Natutral Science Edition, 2004, 25(1): 36-38 |
| |
| Authors: | BI Jing-feng SHI Yu-long |
| |
| Abstract: | Diamond film was produced by plasma assistant hot-filament chemical vapor deposition. XRD and SEM were carried out to investigate the surface characteristics of the films. Under the conditions of the flow rate of CH 4∶H 2 is 2∶98,the temperature is 800 ℃,the voltage of plasma is 400 V and the deposition pressure is 4 kPa, the diamond film is good and the deposition speed is about 1 1 μm·h -1. |
| |
| Keywords: | plasma hot filement chemical vapor deposition diamond film |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
