| 硅基氧化铱薄膜的脉冲激光沉积及其微观结构研究 |
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| 引用本文： | 公衍生,王传彬,沈强,张联盟.硅基氧化铱薄膜的脉冲激光沉积及其微观结构研究[J].真空科学与技术学报,2006,26(5):425-428. |
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| 作者姓名： | 公衍生 王传彬 沈强 张联盟 |
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| 作者单位： | 1. 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070;中国地质大学(武汉)材化学院,武汉,430074
2. 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070 |
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| 基金项目： | 湖北省国际科技合作重点计划项目;教育部长江学者和创新团队发展计划 |
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| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积技术，在Si（100）基片上制备了高致密的氧化铱（IrO2）薄膜，研究了不同沉积温度对薄膜结构的影响。利用X射线衍射（XRD）、拉曼光谱、扫描电镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）对制备的IrO2薄膜进行了表征。结果表明：在20Pa氧分压，250℃～500℃范围内，得到的薄膜为多晶的IrO2物相，其晶粒尺寸和粗糙度随着沉积温度的升高而增加；所得到的IrO2薄膜表面粗糙度低，厚度均匀，与基片结合良好。
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| 关 键 词： | IrO2薄膜 基片温度 微观结构 脉冲激光沉积技术 |
| 文章编号： | 1672-7126（2006）05-425-04 |
| 收稿时间： | 2005-12-27 |
| 修稿时间： | 2005年12月27 |
Microstructures of IrO2 Films Deposited by Pulsed Laser Deposition |
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| Gong Yansheng,Wang Chuanbin,Shen Qiang,Zhang Lianmeng.Microstructures of IrO2 Films Deposited by Pulsed Laser Deposition[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(5):425-428. |
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| Authors: | Gong Yansheng Wang Chuanbin Shen Qiang Zhang Lianmeng |
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| Affiliation: | 1. State key laboratory of advanced technology for material synthesis and processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China ; 2. School of materials science and chemical engineering china university of geosciences , Wuhan , 430074, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | IrO_2 films Substrate temperature Microstructure Pulsed laser deposition(PLD) |
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