| 激光刻蚀对Ag/FTO/AZO薄膜光学和电学性能的影响 |
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| 引用本文： | 周运龙,雷敏,王陈林,许倩,李保家,黄立静.激光刻蚀对Ag/FTO/AZO薄膜光学和电学性能的影响[J].中国激光,2022(2):72-80. |
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| 作者姓名： | 周运龙 雷敏 王陈林 许倩 李保家 黄立静 |
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| 作者单位： | 1. 江苏大学材料科学与工程学院;2. 江苏大学微纳光电子与太赫兹技术研究院;3. 江苏大学机械工程学院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51805220,61405078)；;江苏大学科研课题立项资助(19A003)； |
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| 摘 要： | 采用不同能量密度的激光对制备的Ag/FTO/AZO多层薄膜进行光栅结构刻蚀,分析激光刻蚀后薄膜的表面形貌、光学性能和电学性能的变化,并确定薄膜获得最佳性能时的激光能量密度。结果表明,以一定的激光能量密度对薄膜进行光栅结构刻蚀处理,不仅能有效提高薄膜的抗反射能力,还能产生附加退火作用,促使薄膜晶粒生长,减少晶界面积,从而减少晶界的光子和载流子的散射损失,提高载流子的迁移率,最终提高薄膜的透过率,优化薄膜的导电性能,实现薄膜的光学性能和电学性能的优化。
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| 关 键 词： | 激光加工 Ag/FTO/AZO薄膜 光栅结构 光学性能 电学性能 |
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