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责任编辑
分类号
杂志ISSN号
单片集成电路高台面联线
作者姓名:
黄文英
作者单位:
电子工业部第十三研究所
摘 要:
介绍了GaAs MMIC高台面刻蚀制备工艺方法,解决了高低台面联线问题,提高了单片集成电路性能,保证了可靠性。
关 键 词:
单片集成电路 高台面刻蚀 光刻 联线
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