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单片集成电路高台面联线
作者姓名:黄文英
作者单位:电子工业部第十三研究所
摘    要:介绍了GaAs MMIC高台面刻蚀制备工艺方法,解决了高低台面联线问题,提高了单片集成电路性能,保证了可靠性。

关 键 词:单片集成电路 高台面刻蚀 光刻 联线
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