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Sol-Gel法制备ZnO:Al透明导电薄膜
引用本文:吕敏峰,崔作林,张志焜. Sol-Gel法制备ZnO:Al透明导电薄膜[J]. 材料科学与工程学报, 2003, 21(2): 224-227
作者姓名:吕敏峰  崔作林  张志焜
作者单位:青岛化工学院纳米材料研究所,山东,青岛,266042;青岛化工学院纳米材料研究所,山东,青岛,266042;青岛化工学院纳米材料研究所,山东,青岛,266042
摘    要:采用Sol-Gel工艺在普通载玻片上制备出C轴择优取向性、高可见光透过率以及高电导率的Al3+离子掺杂的ZnO透明导电薄膜.利用SEM、XRD等分析手段对薄膜进行了表征.研究结果表明:所制备的薄膜为纤锌矿型结构,表面平整、致密.通过标准四探针法及UVS透射光谱详细研究了Al3+离子掺杂的ZnO薄膜的电学与光学性能.实验发现,当Al3+离子掺杂浓度为0.8%时,前处理温度为400℃,退火温度为550℃,真空退火温度为550℃时,薄膜具有较好的导电性,电阻率为3.03× 10-3Ω@cm,其在可见光区的透过率超过80%.

关 键 词:Sol-Gel  ZnO  Al+离子掺杂  透明导电薄膜
文章编号:1004-793X(2003)02-0224-04
修稿时间:2002-09-08

Aluminum-doped ZnO Transparent Conducting Thin Films by the Sol-Gel Method
LU Min-feng,CUI Zuo-lin,ZHANG Zhi-kun. Aluminum-doped ZnO Transparent Conducting Thin Films by the Sol-Gel Method[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2003, 21(2): 224-227
Authors:LU Min-feng  CUI Zuo-lin  ZHANG Zhi-kun
Abstract:
Keywords:Sol-Gel  ZnO  Al 3+-doped  transparent-conducting films
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