| 化学水浴沉积制备高质量Zn(O,S)薄膜及其性能研究 |
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| 引用本文： | 孙祺,赵颖,李博研,陈静允,赵子铭,钟大龙.化学水浴沉积制备高质量Zn(O,S)薄膜及其性能研究[J].太阳能学报,2024(4):482-488. |
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| 作者姓名： | 孙祺 赵颖 李博研 陈静允 赵子铭 钟大龙 |
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| 作者单位： | 1. 北京低碳清洁能源研究院;2. 北京市纳米结构薄膜太阳能电池工程技术研究中心 |
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| 基金项目： | 国家重点研发计划（2018YFB1500200）； |
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| 摘 要： | 为获得铜铟镓硒薄膜太阳电池中高质量Zn(O,S)无镉缓冲层薄膜，该研究阐述了柠檬酸三钠作为络合剂制备Zn(O,S)薄膜的成膜机理，系统性研究了该体系下各反应参数对薄膜化学水浴沉积的影响。研究表明，柠檬酸三钠的浓度值显著影响反应类型，异质反应更有利于生成高质量薄膜。同时，柠檬酸三钠与金属离子浓度的比值直接影响成膜质量和成膜速率，适合的pH溶液环境有助于提高Zn(O,S)薄膜沉积的质量。此外，通过工艺参数的优化，获得了电学性能接近传统CdS/CIGS太阳电池的Zn(O,S)/CIGS电池器件。
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| 关 键 词： | 薄膜太阳电池 缓冲层 络合 CIGS 柠檬酸三钠 Zn(O S) 化学水浴沉积 |
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