| 碘离子存在下痕量铜的差分脉冲阳极溶出伏安法的研究及应用 |
| |
| 引用本文： | 孙长林,石利利,陈杰,吴瑄. 碘离子存在下痕量铜的差分脉冲阳极溶出伏安法的研究及应用[J]. 浙江工业大学学报, 1988, 0(2) |
| |
| 作者姓名： | 孙长林 石利利 陈杰 吴瑄 |
| |
| 作者单位： | 浙江工学院化学工程系，浙江工学院化学工程系，浙江工学院化学工程系，浙江工学院化学工程系 87届分析专业毕业生，84届分析专业毕业生，84届分析专业毕业生 |
| |
| 摘 要： | 本文论述了采用汞膜电极研究碘离子存在下痕量铜的差分脉冲阳极溶出行为,并探讨了其机理。在Britton-Robinson介质(pH4.2)中,铜在约0.0V处峰形敏锐,铜离子浓度在1.6×10~(-8)～1.6×10~(-6)mol·dm~(-3)范围内与其溶出峰电流呈现良好的线性关系,检测限为1.6×10~(-9)mol·dm~(-3),方法的标准偏差及变动系数分别为0.24和2.6％。用于血清、发样及饮用水中痕量铜的测定,结果满意。
|
| 关 键 词： | 伏安法 铜 |
Differential Puise Anodic Stripping Voitammetry for Trace Copper in the Presence of Iodide Ion |
| |
| Sun Changlin Shi Lili Chen Jie Wu Xuan. Differential Puise Anodic Stripping Voitammetry for Trace Copper in the Presence of Iodide Ion[J]. Journal of Zhejiang University of Technology, 1988, 0(2) |
| |
| Authors: | Sun Changlin Shi Lili Chen Jie Wu Xuan |
| |
| Affiliation: | Department of Chemical Engineering |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Voltammetry Copper |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
