真空磁控溅射靶Ni-V合金的均匀性研究 |
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引用本文: | 夏慧.真空磁控溅射靶Ni-V合金的均匀性研究[J].稀有金属,1994(6). |
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作者姓名: | 夏慧 |
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作者单位: | 北京有色金属研究总院 |
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摘 要: | Ni-V合金靶材无磁性。该合金由真空熔炼制成,压力加工后晶粒得以细化。靶材的尺寸为Φ225×12.7mm及276×136×9mm。合金的纯度为99.7%。磁性材料镍中添加钒有利于磁控溅射。在溅射过程中,Ni-V合金中的镍被溅射于硅片上,用作粘附层,钒则作为阻挡层。合金靶经X射线衍射分析确定为单相固溶体,经扫描电镜及X射线能谱仪测定,钒在Ni-V合金中的平面方向和垂直方向上分布均匀。
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