真空磁控溅射靶Ni－V合金的均匀性研究

Ｎｉ－Ｖ合金靶材无磁性。该合金由真空熔炼制成，压力加工后晶粒得以细化。靶材的尺寸为Φ２２５×１２．７ｍｍ及２７６×１３６×９ｍｍ。合金的纯度为９９．７％。磁性材料镍中添加钒有利于磁控溅射。在溅射过程中，Ｎｉ－Ｖ合金中的镍被溅射于硅片上，用作粘附层，钒则作为阻挡层。合金靶经Ｘ射线衍射分析确定为单相固溶体，经扫描电镜及Ｘ射线能谱仪测定，钒在Ｎｉ－Ｖ合金中的平面方向和垂直方向上分布均匀。