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InGaN/GaN超晶格垒层用于InGaN发光二极管发光增强研究
引用本文:杨国锋,朱华新,郭颖,李果华,高淑梅.InGaN/GaN超晶格垒层用于InGaN发光二极管发光增强研究[J].激光与光电子学进展,2014,51(3):32301-174.
作者姓名:杨国锋  朱华新  郭颖  李果华  高淑梅
作者单位:杨国锋:江南大学理学院, 江苏 无锡 214122
朱华新:江南大学理学院, 江苏 无锡 214122
郭颖:江南大学理学院, 江苏 无锡 214122
李果华:江南大学理学院, 江苏 无锡 214122
高淑梅:江南大学理学院, 江苏 无锡 214122
基金项目:江苏省自然科学基金(11074280,BK2011436)
摘    要:设计了InGaN/GaN超晶格垒层替代p-GaN和n-GaN附近传统GaN垒层的InGaN/GaN多量子阱(MQW)发光二极管(LEDs)结构。通过数值方法模拟出两种LED结构的光功率-电压(L-V)曲线、电致发光(EL)谱、能带图、电子浓度分布和辐射复合速率。结果表明InGaN/GaN超晶格替代n-GaN附近GaN垒层的LED结构比替代p-GaN附近GaN垒层的LED显示出更高的发光强度。这种发光增强的原因是InGaN/GaN超晶格替代n-GaN附近GaN垒层可以提高电子注入效率和辐射复合速率。

关 键 词:InGaN/GaN  发光二极管  超晶格垒层  数值模拟
收稿时间:2013/10/22

Research on Efficiency Improvement of InGaN Light-Emitting Diodes with InGaN/GaN Superlattice Barrier
Abstract:
Keywords:InGaN/GaN  light-emitting diodes  superlattice barrier  numerical simulation
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