| 原子层沉积技术及应用发展概况 |
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| 引用本文： | 刘雄英,黄光周,范艺,于继荣. 原子层沉积技术及应用发展概况[J]. 真空科学与技术学报, 2006, 26(Z1): 146-153 |
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| 作者姓名： | 刘雄英 黄光周 范艺 于继荣 |
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| 作者单位： | 华南理工大学电子与信息学院,广州,510640 |
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| 摘 要： | 首先回顾了原子层沉积(ALD)发展历史,介绍了ALD的基本工艺和ALD薄膜具有的优良特性,并与传统的薄膜制备工艺进行了对比研究.重点阐述了ALD在微电子技术、微电子机械系统以及光学工程中的几个应用研究现状.分析了ALD目前存在的问题,并对ALD未来的发展进行了展望.
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| 关 键 词： | 原子层沉积 自限制 化学气相沉积 物理气相沉积 |
| 文章编号： | 1672-7126(2006)增-0146-08 |
| 修稿时间： | 2005-09-01 |
Development in Atomic Layer Deposition and Its Applications |
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| Liu Xiongying,Huang Guangzhou,Fan Yi,Yu Jirong. Development in Atomic Layer Deposition and Its Applications[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2006, 26(Z1): 146-153 |
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| Authors: | Liu Xiongying Huang Guangzhou Fan Yi Yu Jirong |
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| Abstract: | |
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