| 脉冲阴极电沉积羟基磷灰石涂层 |
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| 引用本文： | 赵中伟,陈爱良,陈星宇,孙培梅,李洪桂.脉冲阴极电沉积羟基磷灰石涂层[J].中国有色金属学报,2005,15(12):2023-2027. |
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| 作者姓名： | 赵中伟 陈爱良 陈星宇 孙培梅 李洪桂 |
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| 作者单位： | 1. 中南大学,冶金科学与工程学院,长沙,410083
2. 中国矿业大学,化学环境工程学院,北京,100083 |
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| 摘 要： | 对脉冲阴极电沉积与恒电位阴极电沉积制备的羟基磷灰石涂层膜进行了对比实验.结果表明:由于脉冲电沉积的一个关断时间使离子得以从溶液本体向电极表面扩散,在下一脉冲来临时浓差极化的减小有利于HAP的生长;在一定的导通时间下,关断时间的延长有利于羟基磷灰石的沉积,但时间的过度延长不利于羟基磷灰石的沉积;当通电时间为5 s时,其最佳关断时间为2 s;沉积时阴极极化的增强虽有利于膜的生长,但极化过于强烈(阴极电位为-1.0 V(vs SCE)时,涂层易脱落.
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| 关 键 词： | 羟基磷灰石 涂层 脉冲电沉积 恒电位沉积 |
| 文章编号： | 1004-0609（2005）12-2023-05 |
| 收稿时间： | 2005-01-14 |
| 修稿时间： | 2005-08-24 |
Pulsed cathode electrodeposition of hydroxyapatite coatings |
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| ZHAO Zhong-wei,CHEN Ai-liang,CHEN Xing-yu,SUN Pei-mei,LI Hong-gui.Pulsed cathode electrodeposition of hydroxyapatite coatings[J].The Chinese Journal of Nonferrous Metals,2005,15(12):2023-2027. |
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| Authors: | ZHAO Zhong-wei CHEN Ai-liang CHEN Xing-yu SUN Pei-mei LI Hong-gui |
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| Affiliation: | 1. School of Metallurgical Science and Engineering, Central South University, Changsha 410083, China; 2. School of Metallurgical and Environmental Engineering, China University of Mining and Technology, Beijing 100083, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | hydroxyapatite coating pulsed deposition potentiostatic electrodeposition |
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