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矩形双岛硅膜结构扩散硅压力传感器
引用本文:吴宪平.矩形双岛硅膜结构扩散硅压力传感器[J].仪表技术与传感器,1991(1):4-6,24.
作者姓名:吴宪平
作者单位:复旦大学
摘    要:本文报道一种已获国家专利的新型扩散硅压力传感器结构。它由带有矩形双岛的方形硅膜和扩散硅力敏电阻全桥组成。用各向异性腐蚀工艺形成其微机械结构。力敏电阻位于小岛形成的沟槽内。由于外应力高度集中于这些沟槽内,故器件的压力灵敏度比C型硅杯结构提高五倍左右。采用该结构还可实现非线性内补偿。本文讨论了最佳补偿条件并由实验得到证实。已制成量程为100kPa,非线性、滞后、重复性均优于5×10~(-4)F·S,满程输出150mV/V和量程为6kPa,非线性、滞后、重复性均优于5×10~(-4)F·S,满程输出80mV/10V的PT14型扩散硅压力传感器。

关 键 词:硅膜结构  压力传感器  灵敏度
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