| 高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrN_x薄膜及其性能研究 |
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| 引用本文： | 牟晓东,牟宗信,王春,臧海荣,刘冰冰,董闯. 高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrN_x薄膜及其性能研究[J]. 核技术, 2010, 33(12) |
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| 作者姓名： | 牟晓东 牟宗信 王春 臧海荣 刘冰冰 董闯 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，辽宁省教育厅科研项目 |
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| 摘 要： | 高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)溅射粒子离化率高,可沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术在国外广泛研究。本文用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)制备一系列CrN_x薄膜,采用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)对不同厚度的薄膜表面形貌、微观结构进行了分析,测定了薄膜的厚度和硬度,研究了薄膜的摩擦学性能,并与中频磁控溅射(MFMS)技术制备的CrN_x进行比较。结果表明,使用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)能制备致密的CrN_x薄膜。薄膜有较好的综合性能,有较高硬度、较高结合强度和低摩擦系数。
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| 关 键 词： | 薄膜 气相沉积 脉冲功率 CrNx 硬度 |
Study on deposition and properties of CrNx films by high power pulsed unbalanced magnetron sputtering |
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| MU Xiaodong,MU Zongxin,WANG Chun,ZANG Hairong,LIU Bingbing,DONG Chuang. Study on deposition and properties of CrNx films by high power pulsed unbalanced magnetron sputtering[J]. Nuclear Techniques, 2010, 33(12) |
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| Authors: | MU Xiaodong MU Zongxin WANG Chun ZANG Hairong LIU Bingbing DONG Chuang |
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