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MBE In_xGa_(1-x)As/GaAs(001)系统晶格失配的研究
引用本文:王玉田,李成基,任庆余. MBE In_xGa_(1-x)As/GaAs(001)系统晶格失配的研究[J]. 半导体学报, 1989, 10(8): 637-640
作者姓名:王玉田  李成基  任庆余
作者单位:中国科学院半导体研究所 北京(王玉田,李成基),中国科学院半导体研究所 北京(任庆余)
摘    要:本文利用X射线双晶衍射和电子探针显微分析方法,研究了MBE In_xGa_(1-x)As/GaAs(001)系统的晶格失配与In含量x值的关系.在外延层厚度t_(?)~2μm的情况下,获得范性应变临界组份x_c=0.114.当xx_c时,外延层出现范性形变.

关 键 词:晶格失配  双晶衍射  弹性形变  范性形变

Investigation on Lattice Mismatch of MBE In_xGa_(1-x)As/GaAs(001) System
Wang Yutian/Institute of semicoductors,Academia Sinica,BeijingLi Chengji/Institute of semicoductors,Academia Sinica,BeijingRen Qingyu/Institute of semicoductors,Academia Sinica,Beijing. Investigation on Lattice Mismatch of MBE In_xGa_(1-x)As/GaAs(001) System[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 1989, 10(8): 637-640
Authors:Wang Yutian/Institute of semicoductors  Academia Sinica  BeijingLi Chengji/Institute of semicoductors  Academia Sinica  BeijingRen Qingyu/Institute of semicoductors  Academia Sinica  Beijing
Abstract:
Keywords:Lattice mismatch  Double-crystal diffraction  Elastic strain  Plastic strain  
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