PCVD－Ti（CN）膜的工艺及应用研究

通过正交试验对ＰＣＶＤ－Ｔｉ（ＣＮ）膜的镀膜工艺参数进行了优化，得到一可制备高硬度、高结合牢度和高沉积速率的Ｔｉ（ＣＮ）膜的工艺参数。试验表明，在用ＰＣＶＤ法沉积Ｔｉ（ＣＮ）膜的过程中，ＣＨ４的流量是一个重要的控制参数。过多的ＣＨ４会给Ｔｉ（Ｃｘ）膜带来不利影响。氩气虽然可以提高Ｔｉ（ＣＮ）膜的沉积速率，但降低了膜－基的结合牢度。其冷挤压模具应用结果表明，用优化工艺镀Ｔｉ（ＣＮ）膜的模具可比镀ＴｉＮ膜的模具提高寿命２～４倍；与未镀膜的模具相比，可提高寿命１０倍以上。