| 磁控溅射沉积氧化铝薄膜的迟滞效应 |
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| 引用本文： | 徐化冰,徐香坤. 磁控溅射沉积氧化铝薄膜的迟滞效应[J]. 中国表面工程, 2013, 26(1): 40-44 |
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| 作者姓名： | 徐化冰 徐香坤 |
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| 作者单位： | 1. 渤海船舶职业学院 动力工程系,辽宁葫芦岛,125000
2. 沈阳理工大学应用技术学院,辽宁抚顺,113122 |
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| 基金项目： | 沈阳市科技攻关项目(F12028200) |
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| 摘 要： | 利用光发射谱(OES)技术,对反应磁控溅射过程的氧化铝薄膜的迟滞效应进行了研究.对等离子体中的铝(396 nm)谱线和氧化铝(484 nm)谱线随氧气流量的变化进行了实时测量,获得了其迟滞曲线.在迟滞曲线的不同位置分别进行了氧化铝薄膜的沉积试验.采用X射线衍射仪(XRD)、能谱仪(EDS)和紫外可见吸收光谱仪(UV-VIS)对薄膜的晶体结构、成分和透光性进行了分析.结果表明:由于磁控靶表面的氧化铝沉积影响了铝靶材的溅射,导致Al(396 nm)谱线的强度对氧化铝薄膜的晶体结构、原子比以及样品的透光性有明显的影响.同时,由迟滞曲线可知在氧气流量为1.5～2.0 mL/min的过渡区内存在着一个最优沉积带.在这个沉积带获得的样品,其成分具有最佳的化学原子量配比,为0.689.这说明沉积出了高质量的氧化铝薄膜.
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| 关 键 词： | 物理气相沉积 迟滞曲线 晶体结构 透光性 |
Hysteretic Process of Aluminium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering Method |
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| XU Hua-bing,XU Xiang-kun. Hysteretic Process of Aluminium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering Method[J]. China Surface Engineering, 2013, 26(1): 40-44 |
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| Authors: | XU Hua-bing XU Xiang-kun |
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| Affiliation: | 1. Department of Dynamic Engineering, Bohai Shipbuilding Vocational College, Huludao 125000, Liaoning; 2. School of Application Technology, Shenyang Ligong University, Fushun 113122, Liaoning |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | physical vapor deposition hysteretic curve crystal structure transmittance |
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