| 靶基距对脉冲激光沉积CNx薄膜微结构和摩擦学性能的影响 |
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| 引用本文： | 宋建强,郑晓华,杨芳儿,陈乐生,郑晋翔,沈涛. 靶基距对脉冲激光沉积CNx薄膜微结构和摩擦学性能的影响[J]. 中国表面工程, 2013, 26(1): 63-68 |
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| 作者姓名： | 宋建强 郑晓华 杨芳儿 陈乐生 郑晋翔 沈涛 |
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| 作者单位： | 1. 浙江工业大学 机械工程学院,杭州,310014
2. 温州宏丰电工合金股份有限公司,浙江温州,325603 |
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| 基金项目： | 浙江省自然科学基金（Y4110645） |
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| 摘 要： | 用脉冲激光沉积法制备CNx靶材在氮气中进行烧蚀,在不同靶基距下制备了CNx薄膜.用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子谱(XPS)和Raman光谱等对薄膜的表面形貌、化学成分以及元素化学状态进行了表征.用球盘式微型摩擦磨损试验仪测试了薄膜在大气中的摩擦学特性.结果表明:随着靶基距增大到45 mm时,CNx薄膜中的含氮量(原子数分数)上升至23.9％,有利于sp3C-C键和N-sp3C键的形成.当靶基距从45 mm增大至51 mm时,薄膜的含氮量下降至15.5％,薄膜中sp3 C-N键和N-sp3C键的相对原子数分数亦随之减少,薄膜中的s p2 C-C键的相对原子数分数从45.2％增加至55.9％,磨损率从4.3×10-15m3/Nm上升至3.1×10-14 m3/Nm.CNx薄膜的平均摩擦因数随着靶基距的增大从0.25下降到0.18.
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| 关 键 词： | 薄膜 氮化碳 脉冲激光沉积 X射线光电子谱 摩擦磨损 |
Effects of Target to Substrate Distance on Microstructure and Tribological Properties of Pulsed Laser Deposited CNx Films |
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| SONG Jian-qiang,ZHENG Xiao-hu,YANG Fang-er,CHEN Le-sheng,ZHENG Jin-xiang,SHEN Tao. Effects of Target to Substrate Distance on Microstructure and Tribological Properties of Pulsed Laser Deposited CNx Films[J]. China Surface Engineering, 2013, 26(1): 63-68 |
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| Authors: | SONG Jian-qiang ZHENG Xiao-hu YANG Fang-er CHEN Le-sheng ZHENG Jin-xiang SHEN Tao |
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| Affiliation: | 1. College of Mechanical Engineering, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014; 2. Wenzhou Hongfeng Electrical Alloy Co., Ltd., Wenzhou 325603, Zhejiang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin films carbon nitride pulsed laser deposition X-ray photoelectron spectroscopy friction and wear |
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