电子束蒸发制备掺钕钇铝石榴石薄膜特性研究 |
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引用本文: | 任豪,曾群,庞振华,周应恒,梁锡辉.电子束蒸发制备掺钕钇铝石榴石薄膜特性研究[J].激光技术,2012,36(4):450-452. |
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作者姓名: | 任豪 曾群 庞振华 周应恒 梁锡辉 |
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作者单位: | 1.华南师范大学信息光电子科技学院, 广州510631; |
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基金项目: | 2009年广州市科学技术局应用基础研究计划资助项目(2009J1-C411) |
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摘 要: | 硅基光电集成技术是当代高速信息化的重要发展方向之一。为了研究制备在硅衬底上的新型发光材料,突破Nd:YAG固体激光工作物质主要是晶体、透明陶瓷等固体形态的限制,采用电子束蒸发沉积工艺,在硅(100)衬底上制备了Nd:YAG薄膜,并对Nd:YAG薄膜的表面形貌、晶体结构、光学特性进行了测试。X射线和扫描电子显微镜测试结果显示,Nd:YAG薄膜经1100℃真空高温退火处理1h后有效结晶,采用钛蓝宝石激光器输出808nm激光激发,液氮冷却的InGaAs阵列探测器室温下得到Nd:YAG薄膜的1064nm主荧光峰的荧光光谱。结果表明,采用电子束蒸发沉积和后续高温退火工艺可以在硅衬底上制备Nd:YAG晶体薄膜。
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关 键 词: | 薄膜 掺钕钇铝石榴石 电子束蒸发 光致发光 |
收稿时间: | 2011/10/24 |
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