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自干耐酸抗蚀印料的研制
引用本文:张升敏,刘淑梅.自干耐酸抗蚀印料的研制[J].大化科技,1997(3):9-13.
作者姓名:张升敏  刘淑梅
摘    要:就该产品主要成分确定及各成分间的最佳配合试验作了介绍,提出了较理想的配方设计产品工艺路线,试验结果表明:该产品配方设计合理,产品性能优良,并完全适应电路板生产工艺对产品的技术要求。

关 键 词:印料  耐酸  印制电路板  图形蚀刻法  抗刻蚀印料
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