| 薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 李雪,余忠,孙科,李金龙,黄晓东,兰中文.薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响[J].磁性材料及器件,2012,43(5):13-16. |
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| 作者姓名： | 李雪 余忠 孙科 李金龙 黄晓东 兰中文 |
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| 作者单位： | 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都,610054 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(51101028);国家重点实验室基金资助项目(ZZKT200901);中央高校基金资助项目(E022050205) |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜,研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响.结果表明,在800℃空气中退火时,Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透.随薄膜厚度增加,薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加.
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 Ni-Zn铁氧体薄膜 薄膜厚度 磁性能 |
Influence of film thickness on the properties of Ni-Zn ferrite thin films |
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| LI Xue
,
YU Zhong
,
SUN Ke
,
LI Jin-long
,
HUANG Xiao-dong
,
LAN Zhong-wen.Influence of film thickness on the properties of Ni-Zn ferrite thin films[J].Journal of Magnetic Materials and Devices,2012,43(5):13-16. |
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| Authors: | LI Xue YU Zhong SUN Ke LI Jin-long HUANG Xiao-dong LAN Zhong-wen |
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| Affiliation: | State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,China |
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