镀膜平度问题及其改进

当激光功率增加后,从事镀膜和光学器件的人们遇到了一系列问题,因为输出功率当前主要受这些器件现有性能的限制。如镀在镜上的膜层,在经受能量为千兆瓦的一二次以上脉冲后经常损坏。镀膜之所以快速恶化的三个主要原因是:1) 制造期间光学基片制备不良;2)镀膜前光学器件制备(清洁和处理)不适当;3)淀积期间蒸发技术不佳。在与一些公司和政府经销处进行的几次试验计划期间,得出的印象是,适当制备镜片和淀积薄膜镀层,对镜子承受功率的能力确实有所改进。现正在试验的是研究用的镜子,它在6,943埃吋承受400兆瓦10毫微秒的脉冲而没有损坏。