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用Columnar模型对电子空穴对复合逃逸产额的模拟计算
引用本文:王桂珍,张正选,姜景和,罗尹虹.用Columnar模型对电子空穴对复合逃逸产额的模拟计算[J].半导体学报,2001,22(9):1135-1138.
作者姓名:王桂珍  张正选  姜景和  罗尹虹
作者单位:西北核技术研究所,西安710024
摘    要:用一种比较简单的 Jaffe近似方法计算了质子在 Si O2 中的电子空穴对的逃逸率 ,讨论了辐照偏置、电场、质子入射角度、质子能量等对逃逸产额的影响 .得到了电子空穴对复合逃逸率与质子能量、电场成正比的结果 .计算结果与实验结果的比较 ,说明了 Jaffe近似方法可以比较正确地描述质子在二氧化硅中的总剂量效应 .

关 键 词:复合模型    逃逸产额    阻止本领    Columnar模型
文章编号:0253-4177(2001)09-1135-04
修稿时间:2000年9月7日

Recombination Along the Track of Proton in SiO2 Films
WANG Gui-zhen,ZHANG Zheng-xuan,JIANG Jing-he and LUO Yin-hong.Recombination Along the Track of Proton in SiO2 Films[J].Chinese Journal of Semiconductors,2001,22(9):1135-1138.
Authors:WANG Gui-zhen  ZHANG Zheng-xuan  JIANG Jing-he and LUO Yin-hong
Abstract:The Columnar Model is introduced in details.The recombination along the track of protons with the energy below 3MeV is calculated.Theoretical and experimental results are in good agreement with each other,as indicates this method can predict the actual total dose effect of the transistors.
Keywords:recombination model  escaping yield  stopping power  Columnar Model
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