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掺Sb的ZnO单晶的缺陷和性质研究
引用本文:张瑞,张璠,赵有文,董志远,杨俊.掺Sb的ZnO单晶的缺陷和性质研究[J].半导体学报,2008,29(10):1988-1991.
作者姓名:张瑞  张璠  赵有文  董志远  杨俊
作者单位:中国科学院半导体研究所,北京 100083;中国科学院半导体研究所,北京 100083;中国科学院半导体研究所,北京 100083;中国科学院半导体研究所,北京 100083;中国科学院半导体研究所,北京 100083
基金项目:国家自然科学基金 NO.60736032
摘    要:采用化学气相传输法生长了掺Sb的ZnO体单晶,生长温度为950℃. 与非掺ZnO单晶相比,掺Sb后ZnO单晶仍为n型,其自由电子浓度明显升高. X射线光电子能谱(XPS)测量结果表明,掺入的Sb在ZnO单晶中可能占据了Zn位,或处于间隙位置,形成了施主. 利用光致发光谱(PL)测量发现掺Sb后ZnO单晶发出蓝光,该蓝色荧光与浅施主有关. 这些结果表明在高温生长条件下,掺Sb后ZnO单晶中产生了高浓度的施主缺陷,因而难以获得p型材料.

关 键 词:ZnO  单晶  掺杂  缺陷
收稿时间:3/26/2008 4:05:13 PM
修稿时间:4/24/2008 3:45:18 PM

Defects and Properties of Antimony-Doped ZnO Single Crystal
Zhang Rui,Zhang Fan,Zhao Youwen,Dong Zhiyuan and Yang Jun.Defects and Properties of Antimony-Doped ZnO Single Crystal[J].Chinese Journal of Semiconductors,2008,29(10):1988-1991.
Authors:Zhang Rui  Zhang Fan  Zhao Youwen  Dong Zhiyuan and Yang Jun
Affiliation:Institute of Semiconductors,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100083,China;Institute of Semiconductors,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100083,China;Institute of Semiconductors,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100083,China;Institute of Semiconductors,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100083,China;Institute of Semiconductors,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100083,China
Abstract:
Keywords:ZnO  single crystal  doping  defect
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