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脉冲偏压对PECVD制备DLC薄膜的结构及性能的影响
引用本文:陈国富.脉冲偏压对PECVD制备DLC薄膜的结构及性能的影响[J].润滑与密封,2018,43(3):17-22.
作者姓名:陈国富
作者单位:华南理工大学机械与汽车工程学院
基金项目:广东省科技计划项目(2016A010102009);广州市科技计划项目(201707010055).
摘    要:在不锈钢基材表面利用等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD)改变脉冲偏压制备不同结构类金刚石薄膜(DLC)。分别采用表面轮廓仪、扫描电镜、拉曼光谱及电子探针分析薄膜的表面粗糙度、断面形貌、薄膜结构及成分,采用纳米压痕仪及划痕仪测试薄膜的纳米硬度、弹性模量和膜基结合力,采用球盘摩擦试验机测试薄膜在大气环境中的摩擦学性能。结果表明:脉冲偏压显著影响PECVD制备的DLC薄膜的表面粗糙度、微观形貌、膜基结合力、纳米硬度及摩擦学性能;随偏压的增大,DLC薄膜的表面粗糙度,摩擦因数及磨损量都先减小后增大,而膜基结合力则先增大后减小。其中2.0 k V偏压制备的DLC薄膜具有最强的膜基结合力,而1.6 k V偏压制备的DLC薄膜具有最低的表面粗糙度、最高的硬度和最优的减摩耐磨性能。

关 键 词:脉冲偏压  DLC薄膜  力学性能  摩擦学性能

Effects of Pulse Bias Voltages on Structure and Property of DLC Films Prepared by PECVD Technique
Abstract:
Keywords:pulse bias voltages  DLC film  mechanical properties  tribological performance
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