| Al/Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究 |
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| 作者单位： | 薛钰芝（大连铁道学院,大连,116028）;Martin A Green（澳大利亚新南威尔士大学光伏工程研究中心） |
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| 摘 要： | 用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜.用X射线光电子谱仪(XPS)和透射电镜(TEM)对样品进行检测.XPS实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2～5nm.Al/Al2O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为1.43～1.85.Ar离子刻蚀的XPS实验结果(刻蚀速率为0.09nm/s)说明2个对层的Al/Al2O3多层膜截面样品具有周期性结构.TEM观察到了5个对层的Al/Al2O3多层膜的层状态结构,其周期为4nm.由此说明,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的Al/Al2O3多层膜的有效方法.
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| 关 键 词： | Al/Al2O3多层膜 表面分析 显微分析 |
| 文章编号： | 0253-9748(2002)01-0073-04 |
| 修稿时间： | 2001-04-16 |
Surface and Interface Studies of Al/Al2O3 Multilayers |
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