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| 第十九讲 真空溅射镀膜 | |
| 摘 要： | <正>(接2016年第4期第80页)(2)膜层沉积不均匀薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。任何一种有实际应用价值的薄膜,都对膜厚分布有特定的要求,都要求所镀的膜层厚度尽可能均匀一致,有尽可能好的膜厚均匀性。提高膜厚均匀性有多种方法,比如将溅射靶源和基片放置在合适的位置,采用旋转基片,增加遮挡机构等等。对于磁控溅射镀膜,理想的 |
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